ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન લાઇન્સ-શા માટે તેઓ નિષ્ફળ જાય છે?અનુભવો, પડકારો અને નવી પરીક્ષણ પદ્ધતિઓનો ઉપયોગ
કૉપિરાઇટ 2012, સોસાયટી ઑફ પેટ્રોલિયમ એન્જિનિયર્સ
અમૂર્ત
Statoil ઘણા ક્ષેત્રોનું સંચાલન કરે છે જ્યાં સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ડાઉનહોલ સતત ઇન્જેક્શન લાગુ કરવામાં આવે છે.ઉદ્દેશ્ય ઉપલા ટ્યુબિંગ અને સલામતી વાલ્વને (Ba/Sr) SO4orCaCO થી સુરક્ષિત કરવાનો છે;સ્કેલ, એવા કિસ્સાઓમાં જ્યાં સ્કેલ સ્ક્વિઝિંગ નિયમિત ધોરણે કરવા મુશ્કેલ અને ખર્ચાળ હોઈ શકે છે, દા.ત. સબસી ફીલ્ડ્સનું જોડાણ.
સ્કેલ ઇન્હિબિટર ડાઉનહોલનું સતત ઇન્જેક્શન એ કુવાઓમાં ઉપલા ટ્યુબિંગ અને સલામતી વાલ્વને સુરક્ષિત કરવા માટે તકનીકી રીતે યોગ્ય ઉપાય છે જે ઉત્પાદન પેકરની ઉપર સ્કેલિંગ સંભવિત ધરાવે છે;ખાસ કરીને કુવાઓમાં કે જેને નજીકના વેલબોર વિસ્તારમાં સ્કેલિંગ સંભવિતને કારણે નિયમિત ધોરણે સ્ક્વિઝ કરવાની જરૂર નથી.
રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનની ડિઝાઇન, સંચાલન અને જાળવણી સામગ્રીની પસંદગી, રાસાયણિક લાયકાત અને દેખરેખ પર વિશેષ ધ્યાન આપવાની માંગ કરે છે.દબાણ, તાપમાન, પ્રવાહ-વ્યવસ્થા અને સિસ્ટમની ભૂમિતિ સલામત કામગીરી માટે પડકારો રજૂ કરી શકે છે.પ્રોડક્શન ફેસિલિટીથી સબસી ટેમ્પ્લેટ સુધી અને કુવાઓમાં નીચે ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં કેટલાક કિલોમીટર લાંબી ઈન્જેક્શન લાઈનોમાં પડકારો ઓળખવામાં આવ્યા છે.
વરસાદ અને કાટના મુદ્દાઓ સંબંધિત ડાઉનહોલ સતત ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ્સની જટિલતા દર્શાવતા ક્ષેત્રના અનુભવોની ચર્ચા કરવામાં આવી છે.પ્રયોગશાળા અભ્યાસ અને રાસાયણિક લાયકાત માટે નવી પદ્ધતિઓનો ઉપયોગ રજૂ કરે છે.મલ્ટિડિસિપ્લિનરી ક્રિયાઓની જરૂરિયાતોને સંબોધવામાં આવે છે.
પરિચય
સ્ટેટોઇલ ઘણા ક્ષેત્રોનું સંચાલન કરે છે જ્યાં રસાયણોના ડાઉનહોલ સતત ઇન્જેક્શન લાગુ કરવામાં આવે છે.આમાં મુખ્યત્વે સ્કેલ ઇન્હિબિટર (SI) ના ઇન્જેક્શનનો સમાવેશ થાય છે જ્યાં ઉદ્દેશ્ય (Ba/Sr) SO4orCaCO થી ઉપલા ટ્યુબિંગ અને ડાઉનહોલ સેફ્ટી વાલ્વ (DHSV) ને સુરક્ષિત કરવાનો છે;સ્કેલકેટલાક કિસ્સાઓમાં સાપેક્ષ ઊંચા તાપમાને કૂવામાં શક્ય તેટલી ઊંડે સુધી વિભાજનની પ્રક્રિયા શરૂ કરવા માટે ઇમલ્શન બ્રેકરને ડાઉનહોલમાં ઇન્જેક્ટ કરવામાં આવે છે.
સ્કેલ ઇન્હિબિટર ડાઉનહોલનું સતત ઇન્જેક્શન એ કુવાઓના ઉપલા ભાગને સુરક્ષિત કરવા માટે તકનીકી રીતે યોગ્ય ઉકેલ છે જે ઉત્પાદન પેકરની ઉપર સ્કેલિંગ સંભવિત ધરાવે છે.નિરંતર ઇન્જેક્શનની ભલામણ ખાસ કરીને કુવાઓમાં કરવામાં આવી શકે છે જેને નિચોવવાની જરૂર નથી કારણ કે નજીકના વેલબોરમાં સ્કેલિંગની સંભાવના ઓછી છે;અથવા એવા કિસ્સાઓમાં જ્યાં સ્કેલ સ્ક્વિઝિંગ નિયમિત ધોરણે કરવા મુશ્કેલ અને ખર્ચાળ હોઈ શકે છે, દા.ત. સબસી ફીલ્ડ્સનું જોડાણ.
સ્ટેટોઇલે ટોપસાઇડ સિસ્ટમ્સ અને સબસી ટેમ્પ્લેટ્સ પર સતત રાસાયણિક ઇન્જેક્શનનો અનુભવ વિસ્તાર્યો છે પરંતુ નવો પડકાર એ છે કે ઇન્જેક્શન પોઇન્ટને કૂવામાં વધુ ઊંડે સુધી લઈ જવો.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનની ડિઝાઇન, સંચાલન અને જાળવણી માટે ઘણા વિષયો પર વિશેષ ધ્યાન આપવાની જરૂર છે;જેમ કે સામગ્રીની પસંદગી, રાસાયણિક લાયકાત અને દેખરેખ.દબાણ, તાપમાન, પ્રવાહ-વ્યવસ્થા અને સિસ્ટમની ભૂમિતિ સલામત કામગીરી માટે પડકારો રજૂ કરી શકે છે.પ્રોડક્શન ફેસિલિટીથી સબસી ટેમ્પ્લેટ સુધીની લાંબી (કેટલાક કિલોમીટર) ઈન્જેક્શન લાઈનોમાં અને કુવાઓમાં નીચે ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં પડકારો ઓળખવામાં આવ્યા છે;ફિગ.1.કેટલીક ઈન્જેક્શન સિસ્ટમોએ યોજના અનુસાર કામ કર્યું છે, જ્યારે અન્ય વિવિધ કારણોસર નિષ્ફળ ગઈ છે.ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન (DHCI) માટે ઘણા નવા ક્ષેત્ર વિકાસનું આયોજન કરવામાં આવ્યું છે;જોકે;કેટલાક કિસ્સાઓમાં સાધનો હજુ સુધી સંપૂર્ણ લાયકાત ધરાવતા નથી.
DHCI ની અરજી એ એક જટિલ કાર્ય છે.તેમાં પૂર્ણતા અને સારી ડિઝાઇન, સારી રસાયણશાસ્ત્ર, ટોપસાઇડ સિસ્ટમ અને ટોપસાઇડ પ્રક્રિયાની રાસાયણિક ડોઝ સિસ્ટમનો સમાવેશ થાય છે.રસાયણને રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇન દ્વારા ઉપરની બાજુથી પૂર્ણ કરવાના સાધનો સુધી અને કૂવામાં નીચે પમ્પ કરવામાં આવશે.આથી, આ પ્રકારના પ્રોજેક્ટના આયોજન અને અમલીકરણમાં અનેક વિદ્યાશાખાઓ વચ્ચેનો સહકાર મહત્વપૂર્ણ છે.વિવિધ વિચારણાઓનું મૂલ્યાંકન કરવું પડશે અને ડિઝાઇન દરમિયાન સારો સંચાર મહત્વપૂર્ણ છે.સારી રસાયણશાસ્ત્ર, સામગ્રીની પસંદગી, પ્રવાહ ખાતરી અને ઉત્પાદન રાસાયણિક સંચાલનના વિષયો સાથે કામ કરીને પ્રક્રિયા ઇજનેરો, સબસી એન્જિનિયરો અને પૂર્ણતા ઇજનેરો સામેલ છે.પડકારો રાસાયણિક બંદૂક રાજા અથવા તાપમાન સ્થિરતા, કાટ અને કેટલાક કિસ્સાઓમાં સ્થાનિક દબાણ અને રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનમાં પ્રવાહ અસરોને કારણે વેક્યૂમ અસર હોઈ શકે છે.આ ઉપરાંત, ઉચ્ચ દબાણ, ઉચ્ચ તાપમાન, ઉચ્ચ ગેસ દર, ઉચ્ચ સ્કેલિંગ સંભવિત જેવી પરિસ્થિતિઓ,કૂવામાં લાંબા અંતરની નાળ અને ઊંડા ઈન્જેક્શન પોઈન્ટ, રસાયણિક ઈન્જેક્શન અને ઈન્જેક્શન વાલ્વને વિવિધ તકનીકી પડકારો અને જરૂરિયાતો આપે છે.
Statoil કામગીરીમાં સ્થાપિત DHCI સિસ્ટમોની ઝાંખી દર્શાવે છે કે અનુભવ હંમેશા સફળ રહ્યો નથી કોષ્ટક 1. જો કે, ઈન્જેક્શન ડિઝાઇન, રાસાયણિક લાયકાત, સંચાલન અને જાળવણીમાં સુધારો કરવા માટેનું આયોજન હાથ ધરવામાં આવી રહ્યું છે.પડકારો દરેક ક્ષેત્રમાં બદલાય છે, અને સમસ્યા એ જરૂરી નથી કે રાસાયણિક ઇન્જેક્શન વાલ્વ પોતે કામ કરી રહ્યું નથી.
છેલ્લા વર્ષોમાં ડાઉનહોલ કેમિકલ ઈન્જેક્શન લાઈનોને લગતા અનેક પડકારોનો અનુભવ થયો છે.આ લેખમાં આ અનુભવોમાંથી કેટલાક ઉદાહરણો આપવામાં આવ્યા છે.પેપર પડકારો અને DHCI લાઇન્સ સંબંધિત સમસ્યાઓના નિરાકરણ માટે લેવામાં આવેલા પગલાંની ચર્ચા કરે છે.બે કેસ હિસ્ટ્રી આપવામાં આવી છે;એક કાટ પર અને એક કેમિકલ ગન કિંગ પર.વરસાદ અને કાટના મુદ્દાઓ સંબંધિત ડાઉનહોલ સતત ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ્સની જટિલતા દર્શાવતા ક્ષેત્રના અનુભવોની ચર્ચા કરવામાં આવી છે.
રાસાયણિક લાયકાત માટે પ્રયોગશાળા અભ્યાસ અને નવી પદ્ધતિઓનો ઉપયોગ પણ ધ્યાનમાં લેવામાં આવે છે;કેમિકલને કેવી રીતે પમ્પ કરવું, સ્કેલિંગ સંભવિત અને નિવારણ, જટિલ સાધનોનો ઉપયોગ અને જ્યારે રાસાયણિક પાછું ઉત્પન્ન થાય ત્યારે રાસાયણિક ટોચની સિસ્ટમને કેવી રીતે અસર કરશે.રાસાયણિક ઉપયોગ માટેના માપદંડો સ્વીકારવામાં પર્યાવરણીય મુદ્દાઓ, કાર્યક્ષમતા, સંગ્રહ ક્ષમતા ટોચની બાજુ, પંપ દર, હાલના પંપનો ઉપયોગ કરી શકાય કે કેમ વગેરેનો સમાવેશ થાય છે. તકનીકી ભલામણો પ્રવાહી અને રસાયણશાસ્ત્રની સુસંગતતા, અવશેષ શોધ, સામગ્રી સુસંગતતા, સબસી નાળની રચના, રાસાયણિક ડોઝ સિસ્ટમ પર આધારિત હોવી જોઈએ. અને આ રેખાઓની આસપાસની સામગ્રી.ઇન્જેક્શન લાઇનને ગેસના આક્રમણથી અટકાવવા માટે રસાયણને હાઇડ્રેટ ઇન્હિબિટેડ કરવાની જરૂર પડી શકે છે અને પરિવહન અને સંગ્રહ દરમિયાન રસાયણ જામવું જોઈએ નહીં.પ્રવર્તમાન આંતરિક માર્ગદર્શિકામાં એક ચેકલિસ્ટ છે કે જે સિસ્ટમમાં દરેક બિંદુએ રસાયણો લાગુ કરી શકાય છે. ભૌતિક ગુણધર્મો જેમ કે સ્નિગ્ધતા મહત્વપૂર્ણ છે.ઈન્જેક્શન સિસ્ટમ નાભિની પેટાળ પ્રવાહ રેખાનું 3-50km અંતર અને કૂવામાં નીચે 1-3km સૂચિત કરી શકે છે.તેથી, તાપમાન સ્થિરતા પણ મહત્વપૂર્ણ છે.ડાઉનસ્ટ્રીમ ઇફેક્ટ્સનું મૂલ્યાંકન, દા.ત. રિફાઇનરીઓમાં પણ વિચારણા કરવી પડશે.
ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ્સ
ખર્ચ લાભ
ડીએચએસને સુરક્ષિત રાખવા માટે સ્કેલ ઇન્હિબિટર ડાઉનહોલનું સતત ઇન્જેક્શન સ્કેલ ઇન્હિબિટર વડે કૂવાને સ્ક્વિઝ કરવાની સરખામણીમાં પ્રોડક્શન ટ્યુબિંગ ખર્ચાળ હોઈ શકે છે.આ એપ્લીકેશન સ્કેલ સ્ક્વિઝ ટ્રીટમેન્ટ્સની તુલનામાં રચનાના નુકસાનની સંભાવનાને ઘટાડે છે, સ્કેલ સ્ક્વિઝ પછી પ્રક્રિયાની સમસ્યાઓની સંભવિતતાને ઘટાડે છે અને ટોપસાઇડ ઈન્જેક્શન સિસ્ટમમાંથી રાસાયણિક ઈન્જેક્શન દરને નિયંત્રિત કરવાની સંભાવના આપે છે.ઈન્જેક્શન સિસ્ટમનો ઉપયોગ અન્ય રસાયણોને સતત ડાઉનહોલ કરવા માટે પણ થઈ શકે છે અને આ રીતે અન્ય પડકારોને ઘટાડી શકે છે જે પ્રક્રિયા પ્લાન્ટને વધુ ડાઉનસ્ટ્રીમમાં આવી શકે છે.
ઓસેબર્ગ એસ અથવા ક્ષેત્રની ડાઉનહોલ સ્કેલ વ્યૂહરચના વિકસાવવા માટે એક વ્યાપક અભ્યાસ કરવામાં આવ્યો છે.મુખ્ય સ્તરની ચિંતા CaCO હતી;ઉપલા ટ્યુબિંગમાં સ્કેલિંગ અને સંભવિત DHSV નિષ્ફળતા.ઓસેબર્ગ એસ અથવા સ્કેલ મેનેજમેન્ટ વ્યૂહરચના વિચારણાએ તારણ કાઢ્યું હતું કે ત્રણ વર્ષના સમયગાળામાં, DHCI એ કુવાઓમાં જ્યાં રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાઈનો કાર્યરત હતી ત્યાં સૌથી વધુ ખર્ચ અસરકારક ઉકેલ હતો.સ્કેલ સ્ક્વિઝની સ્પર્ધાત્મક તકનીકના સંદર્ભમાં મુખ્ય ખર્ચ ઘટક રાસાયણિક/ઓપરેશનલ ખર્ચને બદલે વિલંબિત તેલ હતું.ગેસ લિફ્ટમાં સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ઉપયોગ માટે, રાસાયણિક ખર્ચ પરનું મુખ્ય પરિબળ ઉચ્ચ ગેસ લિફ્ટ રેટ હતું જે ઉચ્ચ SI સાંદ્રતા તરફ દોરી જાય છે, કારણ કે રાસાયણિક બંદૂકના રાજાને ટાળવા માટે સાંદ્રતાને ગેસ લિફ્ટ રેટ સાથે સંતુલિત કરવાની જરૂર હતી.Oseberg S પરના બે કુવાઓ માટે અથવા જે સારી રીતે કાર્યરત DHC I લાઇન ધરાવે છે, આ વિકલ્પ DHS V ને CaCO સામે રક્ષણ આપવા માટે પસંદ કરવામાં આવ્યો હતો;માપન
સતત ઈન્જેક્શન સિસ્ટમ અને વાલ્વ
સતત રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સિસ્ટમનો ઉપયોગ કરીને અસ્તિત્વમાં રહેલા પૂર્ણતા ઉકેલો કેશિલરી લાઇનના પ્લગિંગને રોકવા માટે પડકારોનો સામનો કરે છે.સામાન્ય રીતે ઈન્જેક્શન સિસ્ટમમાં રુધિરકેશિકા રેખા, 1/4” અથવા 3/8” બહારનો વ્યાસ (OD) હોય છે, જે સપાટીના મેનીફોલ્ડ સુધી હૂક કરવામાં આવે છે, ટ્યુબિંગની વલયાકાર બાજુએ ટ્યુબિંગ હેન્ગર સાથે જોડાયેલ હોય છે.કેશિલરી લાઇન ખાસ ટ્યુબિંગ કોલર ક્લેમ્પ્સ દ્વારા ઉત્પાદન ટ્યુબિંગના બાહ્ય વ્યાસ સાથે જોડાયેલ છે અને રાસાયણિક ઇન્જેક્શન મેન્ડ્રેલ સુધી ટ્યુબિંગની બહારની બાજુએ ચાલે છે.મેન્ડ્રેલને પરંપરાગત રીતે ડીએચએસ વીના ઉપરના પ્રવાહમાં અથવા કુવામાં વધુ ઊંડાણમાં મૂકવામાં આવે છે જેથી ઇન્જેક્ટેડ કેમિકલને વિખેરી નાખવાનો પૂરતો સમય મળે અને રસાયણને જ્યાં પડકારો મળે ત્યાં મૂકવાના આશયથી.
રાસાયણિક ઇન્જેક્શન વાલ્વ, Fig.2 પર, લગભગ 1.5” વ્યાસવાળા નાના કારતૂસમાં ચેક વાલ્વ હોય છે જે વેલબોર પ્રવાહીને કેશિલરી લાઇનમાં પ્રવેશતા અટકાવે છે.તે ફક્ત ઝરણા પર સવારી કરતો એક નાનો પોપેટ છે.સ્પ્રિંગ ફોર્સ સીલિંગ સીટમાંથી પોપેટ ખોલવા માટે જરૂરી દબાણ સેટ કરે છે અને આગાહી કરે છે.જ્યારે રાસાયણિક પ્રવાહ શરૂ થાય છે, ત્યારે પોપેટ તેની સીટ પરથી ઉપાડવામાં આવે છે અને ચેક વાલ્વ ખોલે છે.
બે ચેક વાલ્વ ઇન્સ્ટોલ કરવા જરૂરી છે.એક વાલ્વ એ પ્રાથમિક અવરોધ છે જે વેલબોર પ્રવાહીને કેશિલરી લાઇનમાં પ્રવેશતા અટકાવે છે.આ પ્રમાણમાં ઓછું ઓપનિંગ પ્રેશર (2-15બાર્સ) ધરાવે છે .જો કેશિલરી લાઇનની અંદરનું હાઇડ્રોસ્ટેટિક દબાણ વેલબોર દબાણ કરતાં ઓછું હોય, તો વેલબોર પ્રવાહી કેશિલરી લાઇનમાં પ્રવેશવાનો પ્રયાસ કરશે.અન્ય ચેક વાલ્વમાં 130-250 બારનું એટીપિકલ ઓપનિંગ પ્રેશર હોય છે અને તે U-ટ્યુબ પ્રિવેન્શન સિસ્ટમ તરીકે ઓળખાય છે.આ વાલ્વ કેશિલરી લાઇનની અંદરના રસાયણને વેલબોરમાં મુક્તપણે વહેતા અટકાવે છે જો કેશિલરી લાઇનની અંદરનું હાઇડ્રોસ્ટેટિક દબાણ ઉત્પાદન ટ્યુબિંગની અંદરના રાસાયણિક ઇન્જેક્શન પોઇન્ટ પર વેલબોર દબાણ કરતા વધારે હોય.
બે ચેક વાલ્વ ઉપરાંત, સામાન્ય રીતે ઇન-લાઇન ફિલ્ટર હોય છે, તેનો હેતુ એ સુનિશ્ચિત કરવાનો છે કે કોઈપણ પ્રકારનો ભંગાર ચેક વાલ્વ સિસ્ટમની સીલિંગ ક્ષમતાઓને જોખમમાં ન નાખે.
વર્ણવેલ ચેક વાલ્વના કદ તેના બદલે નાના છે, અને ઇન્જેક્ટેડ પ્રવાહીની સ્વચ્છતા તેમની કાર્યકારી કાર્યક્ષમતા માટે જરૂરી છે.એવું માનવામાં આવે છે કે સિસ્ટમમાં રહેલા કાટમાળને કેશિલરી લાઇનની અંદર ફ્લોરેટ વધારીને દૂર કરી શકાય છે, જેથી ચેક વાલ્વ જાણી જોઈને ખુલે.
જ્યારે ચેક વાલ્વ ખુલે છે, ત્યારે વહેતું દબાણ ઝડપથી ઘટે છે અને દબાણ ફરી વધે ત્યાં સુધી કેશિલરી લાઇન ઉપર પ્રચાર કરે છે.જ્યાં સુધી રસાયણોનો પ્રવાહ વાલ્વ ખોલવા માટે પૂરતું દબાણ ન બનાવે ત્યાં સુધી ચેક વાલ્વ બંધ થઈ જશે;પરિણામ ચેક વાલ્વ સિસ્ટમમાં દબાણ ઓસિલેશન છે.ચેક વાલ્વ સિસ્ટમમાં ઓપનિંગ પ્રેશર જેટલું ઊંચું હોય છે, જ્યારે ચેક વાલ્વ ખુલે છે અને સિસ્ટમ સંતુલન સ્થિતિ પ્રાપ્ત કરવાનો પ્રયાસ કરે છે ત્યારે ઓછો પ્રવાહ વિસ્તાર સ્થાપિત થાય છે.
રાસાયણિક ઈન્જેક્શન વાલ્વ પ્રમાણમાં ઓછું ઓપનિંગ પ્રેશર ધરાવે છે;અને જો રાસાયણિક ઇનલેટ પોઈન્ટ પર ટ્યુબિંગનું દબાણ કેશિલરી લાઇનની અંદરના રસાયણોના હાઇડ્રોસ્ટેટિક દબાણના સરવાળા કરતાં ઓછું હોય અને ચેક વાલ્વ ઓપનિંગ પ્રેશર હોય, તો કેશિલરી લાઇનના ઉપરના ભાગમાં શૂન્યાવકાશની નજીક અથવા વેક્યૂમ થશે.જ્યારે રાસાયણિક ઇન્જેક્શન બંધ થાય છે અથવા રસાયણનો પ્રવાહ ઓછો હોય છે, ત્યારે કેશિલરી લાઇનના ઉપરના ભાગમાં નજીકની શૂન્યાવકાશ સ્થિતિઓ થવાનું શરૂ થાય છે.
શૂન્યાવકાશનું સ્તર વેલબોર પ્રેશર, કેશિલરી લાઇનની અંદર વપરાતા ઇન્જેક્ટેડ રાસાયણિક મિશ્રણની ચોક્કસ ગુરુત્વાકર્ષણ, ઇન્જેક્શન પોઇન્ટ પર ચેક વાલ્વ ખોલવાનું દબાણ અને કેશિલરી લાઇનની અંદર રસાયણના પ્રવાહ દર પર આધારિત છે.ક્ષેત્રના જીવનકાળ દરમિયાન કૂવાની સ્થિતિ બદલાશે અને તેથી શૂન્યાવકાશની સંભાવના પણ ઓવરટાઇમમાં બદલાશે.અપેક્ષિત પડકારો આવે તે પહેલાં યોગ્ય વિચારણા અને સાવચેતી રાખવા માટે આ પરિસ્થિતિથી વાકેફ રહેવું મહત્વપૂર્ણ છે.
નીચા ઈન્જેક્શન દરો સાથે, સામાન્ય રીતે આ પ્રકારના કાર્યક્રમોમાં વપરાતા સોલવન્ટ્સ બાષ્પીભવન થાય છે જેના કારણે એવી અસરો થાય છે જેની સંપૂર્ણ શોધ કરવામાં આવી નથી.આ અસરો ગન કિંગ અથવા ઘન પદાર્થોનો વરસાદ છે, ઉદાહરણ તરીકે પોલિમર, જ્યારે દ્રાવકનું બાષ્પીભવન થાય છે.
આગળ, ગેલ્વેનિક કોષો રાસાયણિકની પ્રવાહી સપાટી અને ઉપરના વેક્યૂમ ગેસ તબક્કાની નજીકથી ભરેલા વરાળ વચ્ચેના સંક્રમણ તબક્કામાં રચી શકાય છે.આ પરિસ્થિતિઓમાં રસાયણની વધેલી આક્રમકતાને પરિણામે કેશિલરી લાઇનની અંદર સ્થાનિક ખાડામાં કાટ લાગી શકે છે.ફ્લેક્સ અથવા મીઠાના સ્ફટિકો કેશિલરી લાઇનની અંદર એક ફિલ્મ તરીકે રચાય છે કારણ કે તેનો આંતરિક ભાગ સુકાઈ જાય છે, કેશિલરી લાઇનને જામ અથવા પ્લગ કરી શકે છે.
વેલ અવરોધ ફિલસૂફી
મજબૂત કૂવા ઉકેલો ડિઝાઇન કરતી વખતે, સ્ટેટોઇલ માટે જરૂરી છે કે કૂવાના જીવનચક્ર દરમિયાન કૂવાની સલામતી હંમેશા ચાલુ રહે.આમ, Statoil માટે જરૂરી છે કે ત્યાં બે સ્વતંત્ર કૂવા અવરોધો અકબંધ હોય.ફિગ. 3 એટીપિકલ કૂવા અવરોધ યોજનાકીય બતાવે છે, જ્યાં વાદળી રંગ પ્રાથમિક કૂવા અવરોધ પરબિડીયું રજૂ કરે છે;આ કિસ્સામાં ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ.લાલ રંગ ગૌણ અવરોધ પરબિડીયું રજૂ કરે છે;કેસીંગસ્કેચમાં ડાબી બાજુએ રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાલ ચિહ્નિત (સેકન્ડરી બેરિયર) વિસ્તારમાં પ્રોડક્શન ટ્યુબિંગના ઈન્જેક્શન પોઈન્ટ સાથે બ્લેકલાઈન તરીકે દર્શાવેલ છે.કૂવામાં રાસાયણિક ઇન્જેક્શન પ્રણાલીઓ દાખલ કરવાથી, પ્રાથમિક અને ગૌણ વેલબોર બંને અવરોધો જોખમમાં મૂકાય છે.
કાટ પર કેસ ઇતિહાસ
ઘટનાઓનો ક્રમ
નોર્વેજીયન કોન્ટિનેન્ટલ શેલ્ફ પર સ્ટેટોઇલ દ્વારા સંચાલિત ઓઇલફિલ્ડમાં સ્કેલ ઇન્હિબિટરનું ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન લાગુ કરવામાં આવ્યું છે.આ કિસ્સામાં લાગુ કરાયેલ સ્કેલ ઇન્હિબિટર મૂળ રીતે ટોપસાઇડ અને સબસી એપ્લિકેશન માટે લાયક ઠરે છે.DHCIpointat2446mMD, Fig.3 ના સ્થાપન દ્વારા કૂવાનું પુનઃસંપન્ન કરવામાં આવ્યું હતું.ટોપસાઇડ સ્કેલ ઇન્હિબિટરનું ડાઉનહોલ ઇન્જેક્શન રાસાયણિકનું વધુ પરીક્ષણ કર્યા વિના શરૂ કરવામાં આવ્યું હતું.
ઓપરેશનના એક વર્ષ પછી કેમિકલ ઈન્જેક્શન સિસ્ટમમાં લીકેજ જોવા મળ્યા અને તપાસ શરૂ થઈ.લીકેજની કૂવાના અવરોધો પર હાનિકારક અસર પડી હતી.કેટલાક કુવાઓ માટે સમાન ઘટનાઓ બની હતી અને તપાસ ચાલુ હતી ત્યારે તેમાંથી કેટલાકને બંધ કરવા પડ્યા હતા.
ઉત્પાદન નળીઓ ખેંચવામાં આવી હતી અને વિગતવાર અભ્યાસ કરવામાં આવ્યો હતો.કાટનો હુમલો ટ્યુબિંગની એક બાજુ સુધી મર્યાદિત હતો, અને કેટલાક ટ્યુબિંગ સાંધા એટલા કાટવાળા હતા કે તેમાંથી ખરેખર છિદ્રો હતા.અંદાજે 8.5 મીમી જાડા 3% ક્રોમ સ્ટીલ 8 મહિનાથી ઓછા સમયમાં વિઘટિત થઈ ગયું હતું.મુખ્ય કાટ કૂવાના ઉપરના ભાગમાં થયો હતો, વેલહેડથી આશરે 380m MD સુધી, અને સૌથી ખરાબ કાટવાળા ટ્યુબિંગ સાંધા લગભગ 350m MD પર જોવા મળ્યા હતા.આ ઊંડાઈની નીચે થોડો અથવા કોઈ કાટ જોવા મળ્યો ન હતો, પરંતુ OD ના નળીઓ પર ઘણો કાટમાળ જોવા મળ્યો હતો.
9-5/8'' આચ્છાદન પણ કાપી અને ખેંચવામાં આવ્યું હતું અને સમાન અસરો જોવા મળી હતી;માત્ર એક બાજુએ કૂવાના ઉપરના ભાગમાં કાટ સાથે.પ્રેરિત લીક કેસીંગના નબળા ભાગને ફાટવાને કારણે થયું હતું.
રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇન સામગ્રી એલોય 825 હતી.
રાસાયણિક લાયકાત
રાસાયણિક ગુણધર્મો અને કાટ પરીક્ષણ એ સ્કેલ અવરોધકોની લાયકાતમાં મહત્વપૂર્ણ ધ્યાન કેન્દ્રિત કરે છે અને વાસ્તવિક સ્કેલ અવરોધક લાયકાત ધરાવતા હતા અને ઘણા વર્ષોથી ટોપસાઇડ અને સબસી એપ્લિકેશનમાં ઉપયોગમાં લેવાય છે.વાસ્તવિક રાસાયણિક ડાઉનહોલ લાગુ કરવા માટેનું કારણ હાલના ડાઉનહોલ રસાયણને બદલીને પર્યાવરણીય ગુણધર્મોમાં સુધારો કરવામાં આવ્યો હતો જો કે, સ્કેલ અવરોધકનો ઉપયોગ ફક્ત એમ્બિયન્ટ ટોપસાઇડ અને સીબેડ તાપમાન (4-20℃) પર જ થતો હતો.જ્યારે કૂવામાં ઇન્જેક્ટ કરવામાં આવે ત્યારે રસાયણનું તાપમાન 90 ℃ જેટલું ઊંચું હોઈ શકે છે, પરંતુ આ તાપમાન પર વધુ કોઈ પરીક્ષણ કરવામાં આવ્યું ન હતું.
રાસાયણિક સપ્લાયર દ્વારા પ્રારંભિક કોરોસિવિટી પરીક્ષણો હાથ ધરવામાં આવ્યા હતા અને પરિણામો ઊંચા તાપમાને કાર્બન સ્ટીલ માટે 2-4mm/વર્ષ દર્શાવે છે.આ તબક્કા દરમિયાન ઓપરેટરની મટીરીયલ ટેકનિકલ યોગ્યતાની ન્યૂનતમ સંડોવણી હતી.પાછળથી ઓપરેટર દ્વારા નવા પરીક્ષણો કરવામાં આવ્યા હતા જે દર્શાવે છે કે સ્કેલ ઇન્હિબિટર ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ અને પ્રોડક્શન કેસીંગમાં સામગ્રી માટે ખૂબ જ કાટ લાગતું હતું, કાટ દર 70mm/વર્ષ કરતાં વધી ગયો હતો.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇન સામગ્રી એલોય 825 નું ઇન્જેક્શન પહેલાં સ્કેલ અવરોધક સામે પરીક્ષણ કરવામાં આવ્યું ન હતું.કૂવાનું તાપમાન 90 ડિગ્રી સુધી પહોંચી શકે છે અને આ શરતો હેઠળ પર્યાપ્ત પરીક્ષણો કરવા જોઈએ.
તપાસમાં એ પણ બહાર આવ્યું છે કે સંકેન્દ્રિત દ્રાવણ તરીકે સ્કેલ અવરોધક <3.0 ની pH નો અહેવાલ આપે છે.જો કે, પીએચ માપવામાં આવ્યો ન હતો.પાછળથી માપવામાં આવેલ pH એ pH 0-1 નું ખૂબ ઓછું મૂલ્ય દર્શાવ્યું.આ આપેલ pH મૂલ્યો ઉપરાંત માપન અને ભૌતિક વિચારણાઓની જરૂરિયાત દર્શાવે છે.
પરિણામોનું અર્થઘટન
ઇન્જેક્શન લાઇન (ફિગ.3) સ્કેલ ઇન્હિબિટરનું હાઇડ્રોસ્ટેટિક દબાણ આપવા માટે બનાવવામાં આવી છે જે ઇન્જેક્શન પોઇન્ટ પર સારી રીતે દબાણ કરતાં વધી જાય છે.અવરોધકને વેલબોરમાં અસ્તિત્વમાં છે તેના કરતા વધુ દબાણ પર ઇન્જેક્ટ કરવામાં આવે છે.આ કૂવાના બંધ થવા પર યુ-ટ્યુબની અસરમાં પરિણમે છે.વાલ્વ હંમેશા કૂવામાં કરતાં ઈન્જેક્શન લાઇનમાં વધુ દબાણ સાથે ખુલશે.તેથી ઇન્જેક્શન લાઇનમાં વેક્યુમ અથવા બાષ્પીભવન થઈ શકે છે.દ્રાવકના બાષ્પીભવનને કારણે ગેસ/પ્રવાહી સંક્રમણ ઝોનમાં કાટ દર અને ખાડાનું જોખમ સૌથી વધુ છે.કૂપન્સ પર કરવામાં આવેલા પ્રયોગશાળાના પ્રયોગોએ આ સિદ્ધાંતની પુષ્ટિ કરી.કૂવાઓમાં જ્યાં લીકેજનો અનુભવ થયો હતો, ઈન્જેક્શન લાઈનોના તમામ છિદ્રો રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાઈનના ઉપરના ભાગમાં સ્થિત હતા.
ફિગ. 4 નોંધપાત્ર પિટિંગ કાટ સાથે DHC I લાઇનની ફોટોગ્રાફી બતાવે છે.બાહ્ય ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ પર દેખાતા કાટ એ પિટિંગ લિકેજ પોઈન્ટમાંથી સ્કેલ અવરોધકના સ્થાનિક એક્સપોઝરનો સંકેત આપે છે.લિકેજ અત્યંત સડો કરતા કેમિકલ દ્વારા કાટને કારણે અને ઉત્પાદન કેસીંગમાં કેમિકલ ઇન્જેક્શન લાઇન દ્વારા લિકેજને કારણે થયું હતું.સ્કેલ ઇન્હિબિટરને પિટેડ કેશિલરી લાઇનથી કેસીંગ અને ટ્યુબિંગ પર છાંટવામાં આવ્યું હતું અને લીક થયું હતું.ઈન્જેક્શન લાઈનમાં લીક થવાના કોઈપણ ગૌણ પરિણામોને ધ્યાનમાં લેવામાં આવ્યા ન હતા.એવું તારણ કાઢવામાં આવ્યું હતું કે કેસીંગ-અને ટ્યુબિંગ કાટ સંકેન્દ્રિત સ્કેલ ઇન્હિબિટર્સ દ્વારા પીટેડ કેશિલરી લાઇનથી કેસીંગ અને ટ્યુબિંગ સુધી પ્રાર્થના કરવામાં આવતાં પરિણામ હતું, ફિગ.5.
આ કિસ્સામાં મટીરીયલ યોગ્યતા ધરાવતા ઇજનેરોની સંડોવણીનો અભાવ હતો.DHCI લાઇન પરના રસાયણની કોરોસિવિટીનું પરીક્ષણ કરવામાં આવ્યું ન હતું અને લિકેજને કારણે થતી ગૌણ અસરોનું મૂલ્યાંકન કરવામાં આવ્યું ન હતું;જેમ કે આસપાસની સામગ્રી રાસાયણિક સંપર્કને સહન કરી શકે છે કે કેમ.
રાસાયણિક બંદૂક રાજાનો કેસ ઇતિહાસ
ઘટનાઓનો ક્રમ
એચપી એચટી ક્ષેત્ર માટે સ્કેલ નિવારણ વ્યૂહરચના એ ડાઉનહોલ સલામતી વાલ્વની ઉપરની તરફ સ્કેલ અવરોધકનું સતત ઇન્જેક્શન હતું.કૂવામાં ગંભીર કેલ્શિયમ કાર્બોનેટ સ્કેલિંગ સંભવિત ઓળખવામાં આવી હતી.પડકારો પૈકીનું એક ઉચ્ચ તાપમાન અને ઉચ્ચ ગેસ અને કન્ડેન્સેટ ઉત્પાદન દર અને નીચા પાણીના ઉત્પાદન દર સાથે જોડાયેલો હતો.સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ઇન્જેક્શન દ્વારા ચિંતા એ હતી કે ઉચ્ચ ગેસ ઉત્પાદન દર દ્વારા દ્રાવકને છીનવી લેવામાં આવશે અને રસાયણનો ગન કિંગ કૂવામાં સેફ્ટી વાલ્વના અપસ્ટ્રીમ ઇન્જેક્શન પોઇન્ટ પર થશે, ફિગ.1.
સ્કેલ ઇન્હિબિટરની લાયકાત દરમિયાન HP HT પરિસ્થિતિઓમાં ઉત્પાદનની કાર્યક્ષમતા પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવામાં આવ્યું હતું જેમાં ટોપસાઇડ પ્રોસેસ સિસ્ટમ (નીચા તાપમાન)માં વર્તનનો સમાવેશ થાય છે.ઉચ્ચ ગેસ દરને કારણે ઉત્પાદન ટ્યુબિંગમાં જ સ્કેલ અવરોધકનો વરસાદ મુખ્ય ચિંતાનો વિષય હતો.લેબોરેટરી પરીક્ષણો દર્શાવે છે કે સ્કેલ અવરોધક ટ્યુબિંગ દિવાલને અવક્ષેપ અને વળગી શકે છે.તેથી સલામતી વાલ્વનું સંચાલન જોખમને હરાવી શકે છે.
અનુભવ દર્શાવે છે કે ઓપરેશનના થોડા અઠવાડિયા પછી કેમિકલ લાઇન લીક થઈ રહી હતી.કેશિલરી લાઇનમાં સ્થાપિત સપાટી ગેજ પર વેલબોર દબાણનું નિરીક્ષણ કરવું શક્ય હતું.સારી અખંડિતતા મેળવવા માટે લાઇનને અલગ કરવામાં આવી હતી.
સમસ્યાનું નિદાન કરવા અને નિષ્ફળતાના સંભવિત કારણો શોધવા માટે રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનને કૂવામાંથી બહાર કાઢવામાં આવી હતી, ખોલવામાં આવી હતી અને તેનું નિરીક્ષણ કરવામાં આવ્યું હતું.ફિગ.6 માં જોઈ શકાય છે તેમ, નોંધપાત્ર માત્રામાં અવક્ષેપ જોવા મળ્યો હતો અને રાસાયણિક પૃથ્થકરણ દર્શાવે છે કે આમાંના કેટલાક સ્કેલ અવરોધક હતા.અવક્ષેપ સીલ અને પોપેટ પર સ્થિત હતું અને વાલ્વ ચલાવી શકાતા નથી.
વાલ્વ નિષ્ફળતા વાલ્વ સિસ્ટમની અંદરના કાટમાળને કારણે થઈ હતી જે ચેક વાલ્વને મેટલથી મેટલ સીટ પર ઉઠાવતા અટકાવે છે.કાટમાળની તપાસ કરવામાં આવી હતી અને મુખ્ય કણો ધાતુના શેવિંગ્સ હોવાનું સાબિત થયું હતું, જે કદાચ કેશિલરી લાઇનની ઇન્સ્ટોલેશન પ્રક્રિયા દરમિયાન ઉત્પન્ન થાય છે.વધુમાં, બંને ચેક વાલ્વ પર ખાસ કરીને વાલ્વની પાછળની બાજુએ કેટલાક સફેદ કાટમાળની ઓળખ કરવામાં આવી હતી.આ નીચા દબાણની બાજુ છે, એટલે કે બાજુ હંમેશા વેલબોર પ્રવાહીના સંપર્કમાં રહેશે.શરૂઆતમાં, આ પ્રોડક્શન વેલબોરનો કાટમાળ હોવાનું માનવામાં આવતું હતું કારણ કે વાલ્વ ખુલ્લા જામ થઈ ગયા હતા અને વેલબોર પ્રવાહીના સંપર્કમાં આવ્યા હતા.પરંતુ ભંગારનું પરીક્ષણ સ્કેલ ઇન્હિબિટર તરીકે વપરાતા રસાયણની જેમ સમાન રસાયણશાસ્ત્ર સાથે પોલિમર હોવાનું સાબિત થયું.આનાથી અમારો રસ પડ્યો અને સ્ટેટોઇલ કેશિલરી લાઇનમાં હાજર આ પોલિમર ભંગાર પાછળના કારણો શોધવા માગે છે.
રાસાયણિક લાયકાત
એચપી એચટી ક્ષેત્રમાં વિવિધ ઉત્પાદન સમસ્યાઓને ઘટાડવા માટે યોગ્ય રસાયણોની પસંદગીના સંદર્ભમાં ઘણા પડકારો છે.સતત ઇન્જેક્શન ડાઉનહોલ માટે સ્કેલ ઇન્હિબિટરની લાયકાતમાં, નીચેના પરીક્ષણો કરવામાં આવ્યા હતા:
● ઉત્પાદન સ્થિરતા
● થર્મલ વૃદ્ધત્વ
● ગતિશીલ પ્રદર્શન પરીક્ષણો
● રચના પાણી અને હાઇડ્રેટ અવરોધક (MEG) સાથે સુસંગતતા
● સ્ટેટિક અને ડાયનેમિક ગન કિંગ ટેસ્ટ
● પુનઃ વિસર્જન માહિતી પાણી, તાજા કેમિકલ અને MEG
રસાયણને પૂર્વનિર્ધારિત માત્રા દરે ઇન્જેક્ટ કરવામાં આવશે,પરંતુ પાણીનું ઉત્પાદન સતત રહેશે તે જરૂરી નથી,એટલે કે પાણી slugging.પાણીના ગોકળગાય વચ્ચે,જ્યારે રસાયણ વેલબોરમાં પ્રવેશે છે,તે ગરમ દ્વારા મળવા આવશે,હાઇડ્રોકાર્બન ગેસનો ઝડપી વહેતો પ્રવાહ.આ ગેસ લિફ્ટ એપ્લિકેશન (ફ્લેમિંગ એટલ.2003) માં સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ઇન્જેક્શન જેવું જ છે .સાથે
ઉચ્ચ ગેસ તાપમાન,સોલવન્ટ સ્ટ્રિપિંગનું જોખમ અત્યંત ઊંચું છે અને ગન કિંગ ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં અવરોધનું કારણ બની શકે છે.ઉચ્ચ ઉત્કલન બિંદુ/નીચા વરાળના દબાણના સોલવન્ટ્સ અને અન્ય વરાળ દબાણ ડિપ્રેસન્ટ્સ (VPD's) સાથે રચાયેલા રસાયણો માટે પણ આ જોખમ છે .આંશિક અવરોધની સ્થિતિમાં,રચના પાણીનો પ્રવાહ,MEG અને/અથવા તાજા કેમિકલ ડિહાઇડ્રેટેડ અથવા ગંક આઉટ કેમિકલને દૂર કરવા અથવા ફરીથી ઓગળવા માટે સક્ષમ હોવા જોઈએ.
આ કિસ્સામાં, ઉત્પાદન પ્રણાલી તરીકે HP/HTg પર ઈન્જેક્શન પોર્ટની નજીક વહેતી પરિસ્થિતિઓની નકલ કરવા માટે એક નવી પ્રયોગશાળા પરીક્ષણ રિગ ડિઝાઇન કરવામાં આવી હતી.ગતિશીલ ગન કિંગ પરીક્ષણોના પરિણામો દર્શાવે છે કે સૂચિત એપ્લિકેશન શરતો હેઠળ નોંધપાત્ર દ્રાવક નુકશાન નોંધવામાં આવ્યું હતું.આનાથી ઝડપી બંદૂક કિંગ થઈ શકે છે અને ફ્લોલાઈનને આખરે અવરોધિત કરી શકાય છે.તેથી કામ દર્શાવે છે કે પાણીના ઉત્પાદન પહેલા આ કુવાઓમાં સતત રાસાયણિક ઇન્જેક્શન માટે પ્રમાણમાં નોંધપાત્ર જોખમ અસ્તિત્વમાં છે અને આ ક્ષેત્ર માટે સામાન્ય સ્ટાર્ટઅપ પ્રક્રિયાઓને સમાયોજિત કરવાના નિર્ણય તરફ દોરી જાય છે, જ્યાં સુધી પાણીની પ્રગતિની શોધ ન થાય ત્યાં સુધી રાસાયણિક ઇન્જેક્શનમાં વિલંબ થાય છે.
સતત ઈન્જેક્શન ડાઉનહોલ માટે સ્કેલ ઇન્હિબિટરની લાયકાતમાં ઈન્જેક્શન પોઈન્ટ પર અને ફ્લોલાઈનમાં સોલવન્ટ સ્ટ્રિપિંગ અને ગન કિંગ ઓફ સ્કેલ ઈન્હિબિટર પર વધુ ધ્યાન આપવામાં આવ્યું હતું પરંતુ ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં જ ગન કિંગની સંભવિતતાનું મૂલ્યાંકન કરવામાં આવ્યું ન હતું.નોંધપાત્ર દ્રાવક નુકશાન અને ઝડપી બંદૂક રાજાને કારણે ઈન્જેક્શન વાલ્વ કદાચ નિષ્ફળ ગયો,Fig.6.પરિણામો દર્શાવે છે કે સિસ્ટમનો સર્વગ્રાહી દૃષ્ટિકોણ હોવો મહત્વપૂર્ણ છે;માત્ર ઉત્પાદન પડકારો પર ધ્યાન કેન્દ્રિત નથી,પણ રસાયણના ઇન્જેક્શન સંબંધિત પડકારો,એટલે કે ઈન્જેક્શન વાલ્વ.
અન્ય ક્ષેત્રોનો અનુભવ
લાંબા અંતરની રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાઈનોની સમસ્યાઓ અંગેના પ્રારંભિક અહેવાલોમાંનો એક ગુલ ફેક સેન્ડવિગ ડિસ સેટેલાઈટ ફીલ્ડ્સ (ઓસા એટલ.2001) નો હતો .ઉત્પાદિત પ્રવાહીમાંથી ગેસના આક્રમણને કારણે સબસી ઈન્જેક્શન લાઈનો લાઈનમાં હાઈડ્રેટ નિર્માણથી અવરોધિત થઈ ગઈ હતી. ઈન્જેક્શન વાલ્વ દ્વારા લાઇનમાં.સબસી ઉત્પાદન રસાયણોના વિકાસ માટે નવી માર્ગદર્શિકા વિકસાવવામાં આવી હતી.સબસી ટેમ્પ્લેટ્સ પર ઇન્જેક્ટ કરવા માટેના તમામ પાણી આધારિત સ્કેલ ઇન્હિબિટર્સમાં કણોને દૂર કરવા (ફિલ્ટરેશન) અને હાઇડ્રેટ ઇન્હિબિટર (દા.ત. ગ્લાયકોલ) ઉમેરવાનો સમાવેશ થાય છે.રાસાયણિક સ્થિરતા,સ્નિગ્ધતા અને સુસંગતતા (પ્રવાહી અને સામગ્રી) પણ ધ્યાનમાં લેવામાં આવી હતી.આ આવશ્યકતાઓને સ્ટેટોઇલ સિસ્ટમમાં વધુ લેવામાં આવી છે અને તેમાં ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શનનો સમાવેશ થાય છે.
ઓસેબર્ગ એસ અથવા ક્ષેત્રના વિકાસના તબક્કા દરમિયાન એવું નક્કી કરવામાં આવ્યું હતું કે તમામ કુવાઓ DHC I સિસ્ટમ્સ (ફ્લેમિંગ એટલ.2006) વડે પૂર્ણ કરવા જોઈએ. ઉદ્દેશ્ય CaCO ને અટકાવવાનો હતો.;SI ઇન્જેક્શન દ્વારા ઉપલા ટ્યુબિંગમાં સ્કેલિંગ.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનના સંદર્ભમાં એક મુખ્ય પડકાર સપાટી અને ડાઉનહોલ આઉટલેટ વચ્ચે સંચાર પ્રાપ્ત કરવાનો હતો.રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાઇનનો આંતરિક વ્યાસ 7mm થી 0.7mm(ID) સુધી સાંકડી જગ્યાની મર્યાદાઓને કારણે એન્યુલસ સેફ્ટી વાલ્વની આસપાસ અને પ્રવાહીની આ વિભાગ દ્વારા પરિવહન કરવાની ક્ષમતાએ સફળતા દરને પ્રભાવિત કર્યો હતો.કેટલાક પ્લેટફોર્મ કુવાઓમાં રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇન હતી જે પ્લગ કરવામાં આવી હતી,પણ કારણ સમજાયું નહિ.વિવિધ પ્રવાહીની ટ્રેનો (ગ્લાયકોલ,ક્રૂડ,કન્ડેન્સેટ,ઝાયલીન,સ્કેલ અવરોધક,પાણી વગેરે) સ્નિગ્ધતા અને સુસંગતતા માટે પ્રયોગશાળામાં પરીક્ષણ કરવામાં આવ્યું હતું અને લાઈનો ખોલવા માટે આગળ અને વિપરીત પ્રવાહમાં પમ્પ કરવામાં આવ્યું હતું.;જો કે,ટાર્ગેટ સ્કેલ અવરોધકને રાસાયણિક ઈન્જેક્શન વાલ્વ સુધી નીચે પમ્પ કરી શકાતું નથી.આગળ,ફોસ્ફોનેટ સ્કેલ ઇન્હિબિટરના અવક્ષેપ સાથે એક કૂવામાં શેષ CaCl z કમ્પ્લીશન બ્રિન અને ઉચ્ચ ગેસોઇલ રેશિયો અને ઓછા પાણીના કાપ સાથે કૂવામાં ગન કિંગ ઓફ ધ સ્કેલ ઇન્હિબિટર સાથે ગૂંચવણો જોવા મળી હતી (ફ્લેમિંગ એટલ.2006)
પાઠ શીખ્યા
પરીક્ષણ પદ્ધતિનો વિકાસ
DHC I સિસ્ટમની નિષ્ફળતામાંથી શીખેલા મુખ્ય પાઠ સ્કેલ ઇન્હિબિટરની તકનીકી કાર્યક્ષમતાના સંદર્ભમાં છે અને કાર્યક્ષમતા અને રાસાયણિક ઇન્જેક્શનના સંદર્ભમાં નહીં.ટોપસાઇડ ઇન્જેક્શન અને સબસી ઇન્જેક્શન ઓવરટાઇમ સારી રીતે કાર્ય કરે છે;જો કે,રાસાયણિક લાયકાત પદ્ધતિઓના અનુરૂપ અપડેટ વિના એપ્લિકેશનને ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન સુધી વિસ્તૃત કરવામાં આવી છે.પ્રસ્તુત કરાયેલા બે ક્ષેત્રના કેસોમાંથી સ્ટેટોઇલનો અનુભવ એ છે કે આ પ્રકારના રાસાયણિક એપ્લિકેશનને સમાવવા માટે રાસાયણિક લાયકાત માટેના સંચાલક દસ્તાવેજો અથવા માર્ગદર્શિકા અપડેટ કરવી આવશ્યક છે.મુખ્ય બે પડકારો તરીકે ઓળખવામાં આવ્યા છે i) રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનમાં વેક્યુમ અને ii) રસાયણનો સંભવિત વરસાદ.
રાસાયણિકનું બાષ્પીભવન ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ પર થઈ શકે છે (જેમ કે ગન કિંગ કેસમાં જોવામાં આવ્યું છે) અને ઈન્જેક્શન ટ્યુબિંગમાં (વેક્યુમ કેસમાં ક્ષણિક ઈન્ટરફેસ ઓળખવામાં આવ્યું છે) ત્યાં જોખમ છે કે આ અવક્ષેપો પ્રવાહ સાથે ખસેડવામાં આવી શકે છે અને ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં અને આગળ કૂવામાં.ઈન્જેક્શન વાલ્વ ઘણીવાર ઈન્જેક્શન પોઈન્ટના અપસ્ટ્રીમ ફિલ્ટર સાથે ડિઝાઇન કરવામાં આવે છે,આ એક પડકાર છે,વરસાદના કિસ્સામાં આ ફિલ્ટર પ્લગ થઈ શકે છે જેના કારણે વાલ્વ નિષ્ફળ થઈ શકે છે.
શીખેલા પાઠમાંથી અવલોકનો અને પ્રારંભિક તારણો ઘટના પરના વ્યાપક પ્રયોગશાળા અભ્યાસમાં પરિણમ્યા.એકંદર ઉદ્દેશ્ય ભવિષ્યમાં સમાન સમસ્યાઓ ટાળવા માટે નવી લાયકાત પદ્ધતિઓ વિકસાવવાનો હતો.આ અભ્યાસમાં વિવિધ પરીક્ષણો હાથ ધરવામાં આવ્યા છે અને ઓળખવામાં આવેલા પડકારોના સંદર્ભમાં રસાયણોની તપાસ કરવા માટે ઘણી પ્રયોગશાળા પદ્ધતિઓ ડિઝાઇન કરવામાં આવી છે (ક્રમમાં વિકસાવવામાં આવી છે).
● બંધ સિસ્ટમોમાં અવરોધો અને ઉત્પાદન સ્થિરતા ફિલ્ટર કરો.
● રસાયણોના કાટ પર આંશિક દ્રાવક નુકશાનની અસર.
● ઘન પદાર્થો અથવા ચીકણા પ્લગની રચના પર રુધિરકેશિકાની અંદર આંશિક દ્રાવક નુકશાનની અસર.
પ્રયોગશાળા પદ્ધતિઓના પરીક્ષણો દરમિયાન ઘણી સંભવિત સમસ્યાઓ ઓળખવામાં આવી છે
● પુનરાવર્તિત ફિલ્ટર અવરોધો અને નબળી સ્થિરતા.
● રુધિરકેશિકામાંથી આંશિક બાષ્પીભવન પછી ઘન રચના
● દ્રાવકની ખોટને કારણે PH બદલાય છે.
હાથ ધરવામાં આવેલા પરીક્ષણોની પ્રકૃતિએ અમુક શરતોને આધિન હોય ત્યારે રુધિરકેશિકાઓમાં રસાયણોના ભૌતિક ગુણધર્મોમાં થતા ફેરફારોને લગતી વધારાની માહિતી અને જ્ઞાન પણ પ્રદાન કર્યું છે.,અને સમાન પરિસ્થિતિઓને આધિન બલ્ક સોલ્યુશન્સથી આ કેવી રીતે અલગ છે.પરીક્ષણ કાર્યમાં બલ્ક પ્રવાહી વચ્ચે નોંધપાત્ર તફાવતો પણ ઓળખવામાં આવ્યા છે,વરાળના તબક્કાઓ અને અવશેષ પ્રવાહી જે કાં તો અવક્ષેપ અને/અથવા વધેલી કાટની સંભાવના તરફ દોરી શકે છે.
સ્કેલ ઇન્હિબિટર્સની કાટરોધકતા માટેની પરીક્ષણ પ્રક્રિયા વિકસાવવામાં આવી હતી અને તેને સંચાલિત દસ્તાવેજીકરણમાં શામેલ કરવામાં આવી હતી.સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ઇન્જેક્શન લાગુ કરી શકાય તે પહેલાં દરેક એપ્લિકેશન માટે વિસ્તૃત કોરોસિવિટી પરીક્ષણ કરવું જરૂરી હતું.ઈન્જેક્શન લાઈનમાં રહેલા કેમિકલના ગન કિંગ ટેસ્ટ પણ કરવામાં આવ્યા છે.
રસાયણની લાયકાત શરૂ કરતા પહેલા પડકારો અને રસાયણના હેતુનું વર્ણન કરતા કાર્યનો અવકાશ બનાવવો મહત્વપૂર્ણ છે.પ્રારંભિક તબક્કામાં સમસ્યાનું નિરાકરણ લાવતા રસાયણોના પ્રકારો પસંદ કરવામાં સક્ષમ થવા માટે મુખ્ય પડકારોને ઓળખવા મહત્વપૂર્ણ છે.સૌથી મહત્વપૂર્ણ સ્વીકારવાના માપદંડોનો સારાંશ કોષ્ટક 2 માં મળી શકે છે.
રસાયણોની લાયકાત
રસાયણોની લાયકાતમાં દરેક એપ્લિકેશન માટે પરીક્ષણ અને સૈદ્ધાંતિક મૂલ્યાંકન બંનેનો સમાવેશ થાય છે.ટેકનિકલ સ્પષ્ટીકરણો અને પરીક્ષણ માપદંડો વ્યાખ્યાયિત અને સ્થાપિત કરવા પડશે,ઉદાહરણ તરીકે HSE ની અંદર,સામગ્રી સુસંગતતા,ઉત્પાદન સ્થિરતા અને ઉત્પાદન ગુણવત્તા (કણો).આગળ,ઠંડું બિંદુ,સ્નિગ્ધતા અને અન્ય રસાયણો સાથે સુસંગતતા,હાઇડ્રેટ અવરોધક,રચના પાણી અને ઉત્પાદિત પ્રવાહી નક્કી કરવું આવશ્યક છે.રસાયણોની લાયકાત માટે ઉપયોગમાં લેવાતી પરીક્ષણ પદ્ધતિઓની એક સરળ સૂચિ કોષ્ટક 2 માં આપવામાં આવી છે.
તકનીકી કાર્યક્ષમતા પર સતત ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું અને તેનું નિરીક્ષણ કરવું,ડોઝ દર અને HSE તથ્યો મહત્વપૂર્ણ છે.ઉત્પાદનની આવશ્યકતાઓ ક્ષેત્ર અથવા પ્રક્રિયા પ્લાન્ટના જીવનકાળમાં પરિવર્તન લાવી શકે છે;ઉત્પાદન દર તેમજ પ્રવાહી રચના સાથે બદલાય છે.કામગીરીના મૂલ્યાંકન સાથે અનુવર્તી પ્રવૃત્તિ,શ્રેષ્ઠ સારવાર કાર્યક્રમ સુનિશ્ચિત કરવા માટે નવા રસાયણોનું ઑપ્ટિમાઇઝેશન અને/અથવા પરીક્ષણ વારંવાર થવું જોઈએ.
તેલની ગુણવત્તા પર આધાર રાખે છે,ઑફશોર પ્રોડક્શન પ્લાન્ટમાં પાણીનું ઉત્પાદન અને તકનીકી પડકારો,નિકાસ ગુણવત્તા હાંસલ કરવા માટે ઉત્પાદન રસાયણોનો ઉપયોગ જરૂરી હોઈ શકે છે,નિયમનકારી જરૂરિયાતો,અને ઑફશોર ઇન્સ્ટોલેશનને સુરક્ષિત રીતે ચલાવવા માટે.બધા ક્ષેત્રોમાં વિવિધ પડકારો હોય છે, અને જરૂરી ઉત્પાદન રસાયણો દરેક ક્ષેત્ર અને ઓવરટાઇમમાં બદલાય છે.
લાયકાત કાર્યક્રમમાં ઉત્પાદન રસાયણોની તકનીકી કાર્યક્ષમતા પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું મહત્વપૂર્ણ છે,પરંતુ રાસાયણિક ગુણધર્મો પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું પણ ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે,જેમ કે સ્થિરતા,ઉત્પાદન ગુણવત્તા અને સુસંગતતા.આ સેટિંગમાં સુસંગતતા એટલે પ્રવાહી સાથે સુસંગતતા,સામગ્રી અને અન્ય ઉત્પાદન રસાયણો.આ એક પડકાર બની શકે છે.તે પછીથી જાણવા માટે કે રસાયણ નવા પડકારોમાં ફાળો આપે છે અથવા બનાવે છે તે શોધવા માટે સમસ્યાને ઉકેલવા માટે રસાયણનો ઉપયોગ કરવો ઇચ્છનીય નથી.તે કદાચ રાસાયણિક ગુણધર્મો છે અને તકનીકી પડકાર નથી જે સૌથી મોટો પડકાર છે.
ખાસ જરૂરિયાતો
સબસી સિસ્ટમ માટે અને સતત ઈન્જેક્શન ડાઉનહોલ માટે પૂરા પાડવામાં આવેલ ઉત્પાદનોના ફિલ્ટરેશન પર વિશેષ જરૂરિયાતો લાગુ કરવી જોઈએ.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સિસ્ટમમાં સ્ટ્રેનર અને ફિલ્ટર્સ ટોપસાઇડ ઇન્જેક્શન સિસ્ટમમાંથી ડાઉનસ્ટ્રીમ સાધનો પરના સ્પષ્ટીકરણના આધારે પ્રદાન કરવા જોઈએ.,પંપ અને ઈન્જેક્શન વાલ્વ,ડાઉનહોલ ઈન્જેક્શન વાલ્વ સુધી.જ્યાં રસાયણોનું ડાઉનહોલ સતત ઇન્જેક્શન લાગુ કરવામાં આવે છે ત્યાં રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સિસ્ટમમાં સ્પષ્ટીકરણ ઉચ્ચતમ જટિલતા સાથે સ્પષ્ટીકરણ પર આધારિત હોવું જોઈએ.આ કદાચ ઈન્જેક્શન વાલ્વ ડાઉનહોલ પરનું ફિલ્ટર છે.
ઇન્જેક્શન પડકારો
ઈન્જેક્શન સિસ્ટમ નાભિની પેટાળના પ્રવાહનું 3-50km અંતર અને કૂવામાં નીચે 1-3km સૂચવે છે.ભૌતિક ગુણધર્મો જેમ કે સ્નિગ્ધતા અને રસાયણોને પંપ કરવાની ક્ષમતા મહત્વપૂર્ણ છે.જો સમુદ્રતળના તાપમાને સ્નિગ્ધતા ખૂબ વધારે હોય તો તે રાસાયણિકને સબસી નાળમાં અને સબસી ઈન્જેક્શન પોઈન્ટ અથવા કૂવામાં રાસાયણિક ઈન્જેક્શન લાઇન દ્વારા પમ્પ કરવું પડકારરૂપ બની શકે છે.સ્નિગ્ધતા અપેક્ષિત સ્ટોરેજ અથવા ઓપરેશનલ તાપમાન પર સિસ્ટમ સ્પષ્ટીકરણ અનુસાર હોવી જોઈએ.દરેક કિસ્સામાં આનું મૂલ્યાંકન કરવું જોઈએ,અને સિસ્ટમ આધારિત હશે.ટેબલ કેમિકલ ઈન્જેક્શન રેટ રાસાયણિક ઈન્જેક્શનમાં સફળતા માટેનું પરિબળ છે.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનને પ્લગ કરવાના જોખમને ઘટાડવા માટે,આ સિસ્ટમમાંના રસાયણો હાઇડ્રેટ અવરોધિત હોવા જોઈએ (જો હાઇડ્રેટ માટે સંભવિત હોય તો).સિસ્ટમમાં હાજર પ્રવાહી (સંરક્ષણ પ્રવાહી) અને હાઇડ્રેટ અવરોધક સાથે સુસંગતતા કરવી જરૂરી છે.વાસ્તવિક તાપમાન પર રાસાયણિક સ્થિરતા પરીક્ષણો(સંભવિત સૌથી નીચું આસપાસનું તાપમાન,આસપાસનું તાપમાન,પેટાળનું તાપમાન,ઈન્જેક્શન તાપમાન) પસાર કરવું પડશે.
આપેલ આવર્તન પર રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇન ધોવા માટેનો પ્રોગ્રામ પણ ધ્યાનમાં લેવો આવશ્યક છે.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનને દ્રાવક સાથે નિયમિતપણે ફ્લશ કરવા માટે તે નિવારક અસર આપી શકે છે,ગ્લાયકોલ અથવા ક્લિનિંગ કેમિકલ સંચિત થાય તે પહેલાં શક્ય થાપણોને દૂર કરવા અને લાઇનના પ્લગિંગનું કારણ બની શકે છે.ફ્લશિંગ પ્રવાહીનું પસંદ કરેલ રાસાયણિક દ્રાવણ હોવું જોઈએઈન્જેક્શન લાઈનમાં રહેલા રાસાયણિક સાથે સુસંગત.
કેટલાક કિસ્સાઓમાં રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનનો ઉપયોગ ક્ષેત્રના જીવનકાળ અને પ્રવાહી પરિસ્થિતિઓમાં વિવિધ પડકારોના આધારે કેટલાક રાસાયણિક કાર્યક્રમો માટે થાય છે.પાણીની પ્રગતિ પહેલાના પ્રારંભિક ઉત્પાદન તબક્કામાં મુખ્ય પડકારો જીવનના અંતમાં પાણીના ઉત્પાદનમાં વધારો સાથે સંબંધિત પડકારો કરતા અલગ હોઈ શકે છે.બિન-જલીય દ્રાવક આધારિત અવરોધક જેમ કે એસ્ફાલ્ટ એન ઇન્હિબિટરથી પાણી આધારિત રસાયણમાં બદલવું જેમ કે સ્કેલ અવરોધક સુસંગતતા સાથે પડકારો આપી શકે છે.તેથી જ્યારે રાસાયણિક ઇન્જેક્શન લાઇનમાં રસાયણ બદલવાનું આયોજન કરવામાં આવે ત્યારે સુસંગતતા અને લાયકાત અને સ્પેસર્સના ઉપયોગ પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું મહત્વપૂર્ણ છે.
સામગ્રી
સામગ્રી સુસંગતતા અંગે,બધા રસાયણો સીલ સાથે સુસંગત હોવા જોઈએ,ઇલાસ્ટોમર્સ,રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ અને ઉત્પાદન પ્લાન્ટમાં વપરાતી ગાસ્કેટ અને બાંધકામ સામગ્રી.સતત ઇન્જેક્શન ડાઉનહોલ માટે રસાયણો (દા.ત. એસિડિક સ્કેલ ઇન્હિબિટર) ની કાટરોધકતા માટે પરીક્ષણ પ્રક્રિયા વિકસાવવી જોઈએ.રસાયણોના ઇન્જેક્શન લાગુ કરી શકાય તે પહેલાં દરેક એપ્લિકેશન માટે વિસ્તૃત કોરોસિવિટી પરીક્ષણ કરવું જરૂરી છે.
ચર્ચા
સતત ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શનના ફાયદા અને ગેરફાયદાનું મૂલ્યાંકન કરવું પડશે.ડીએચએસના રક્ષણ માટે સ્કેલ ઇન્હિબિટરનું સતત ઇન્જેક્શન એ કુવાને સ્કેલથી બચાવવા માટે પ્રોડક્શન ટ્યુબિંગ એક ભવ્ય પદ્ધતિ છે.આ પેપરમાં જણાવ્યા મુજબ સતત ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન સાથે અનેક પડકારો છે,જો કે જોખમ ઘટાડવા માટે સોલ્યુશન સાથે જોડાયેલી ઘટનાઓને સમજવી મહત્વપૂર્ણ છે.
જોખમ ઘટાડવાની એક રીત એ છે કે પરીક્ષણ પદ્ધતિના વિકાસ પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું.ટોપસાઇડ અથવા સબસી રાસાયણિક ઇન્જેક્શનની તુલનામાં કૂવામાં નીચે વિવિધ અને વધુ ગંભીર પરિસ્થિતિઓ છે.રસાયણોના ડાઉનહોલના સતત ઇન્જેક્શન માટે રસાયણો માટેની લાયકાતની પ્રક્રિયામાં આ ફેરફારોને ધ્યાનમાં લેવામાં આવે છે.રસાયણોની લાયકાત રસાયણોના સંપર્કમાં આવી શકે તે સામગ્રી અનુસાર બનાવવી આવશ્યક છે.સુસંગતતા લાયકાત અને પરિક્ષણ માટેની આવશ્યકતાઓ કે જે શક્ય તેટલી નજીકની પ્રતિકૃતિ બનાવે છે જે આ સિસ્ટમો હેઠળ કામ કરશે તેવી વિવિધ સારી જીવનચક્ર પરિસ્થિતિઓને અપડેટ અને અમલમાં મૂકવી પડશે.પરીક્ષણ પદ્ધતિ વિકાસને વધુ વાસ્તવિક અને પ્રતિનિધિ પરીક્ષણો માટે વધુ વિકસિત કરવાની જરૂર છે.
વધુમાં,રસાયણો અને સાધનો વચ્ચેની ક્રિયાપ્રતિક્રિયા સફળતા માટે જરૂરી છે.ઈન્જેક્શન રાસાયણિક વાલ્વના વિકાસ માટે રાસાયણિક ગુણધર્મો અને કૂવામાં ઈન્જેક્શન વાલ્વનું સ્થાન ધ્યાનમાં લેવું જોઈએ.પરીક્ષણ સાધનોના ભાગ રૂપે વાસ્તવિક ઇન્જેક્શન વાલ્વનો સમાવેશ કરવા અને લાયકાત કાર્યક્રમના ભાગ રૂપે સ્કેલ ઇન્હિબિટર અને વાલ્વ ડિઝાઇનનું પ્રદર્શન પરીક્ષણ હાથ ધરવાનું ધ્યાનમાં લેવું જોઈએ.સ્કેલ અવરોધકોને લાયક બનાવવા માટે,મુખ્ય ધ્યાન અગાઉ પ્રક્રિયા પડકારો અને સ્કેલ નિષેધ પર રહ્યું છે,પરંતુ સારા પાયે અવરોધ સ્થિર અને સતત ઇન્જેક્શન પર આધાર રાખે છે.સ્થિર અને સતત ઇન્જેક્શન વિના સ્કેલની સંભાવના વધશે.જો સ્કેલ ઇન્હિબિટર ઈન્જેક્શન વાલ્વ ગંક એડ હોય અને પ્રવાહી પ્રવાહમાં કોઈ સ્કેલ અવરોધક ઈન્જેક્શન ન હોય તો,કૂવા અને સલામતી વાલ્વ સ્કેલથી સુરક્ષિત નથી અને તેથી સુરક્ષિત ઉત્પાદન જોખમમાં મૂકાઈ શકે છે.લાયકાતની પ્રક્રિયામાં પ્રક્રિયાના પડકારો ઉપરાંત સ્કેલ ઇન્હિબિટરના ઇન્જેક્શન સંબંધિત પડકારો અને ક્વોલિફાઇડ સ્કેલ ઇન્હિબિટરની કાર્યક્ષમતાનું ધ્યાન રાખવું પડે છે.
નવા અભિગમમાં ઘણી વિદ્યાશાખાઓનો સમાવેશ થાય છે અને શિસ્ત અને સંબંધિત જવાબદારીઓ વચ્ચેના સહકારની સ્પષ્ટતા કરવી પડશે.આ એપ્લિકેશનમાં ટોપસાઇડ પ્રોસેસ સિસ્ટમ,સબસી ટેમ્પ્લેટ્સ અને સારી ડિઝાઇન અને પૂર્ણતા સામેલ છે.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ માટે મજબૂત ઉકેલો વિકસાવવા પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરતા બહુ-શિસ્ત નેટવર્ક્સ મહત્વપૂર્ણ છે અને કદાચ સફળતાનો માર્ગ છે.વિવિધ શાખાઓ વચ્ચે વાતચીત મહત્વપૂર્ણ છે;ખાસ કરીને રસાયણશાસ્ત્રીઓ કે જેમની પાસે લાગુ કરાયેલા રસાયણોનું નિયંત્રણ હોય છે અને કૂવામાં વપરાતા સાધનોનું નિયંત્રણ ધરાવતા કુવા એન્જિનિયરો વચ્ચેનો ગાઢ સંચાર મહત્વપૂર્ણ છે.સમગ્ર પ્રક્રિયાની જટિલતાને સમજવા માટે વિવિધ શાખાઓના પડકારોને સમજવા અને એકબીજા પાસેથી શીખવું જરૂરી છે.
નિષ્કર્ષ
● DHS ના રક્ષણ માટે સ્કેલ ઇન્હિબિટરનું સતત ઇન્જેક્શન અથવા ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ સ્કેલ માટે કૂવાને સુરક્ષિત કરવા માટે એક ભવ્ય પદ્ધતિ છે
● ઓળખાયેલ પડકારોને ઉકેલવા,નીચેની ભલામણો છે：
● એક સમર્પિત DHCI લાયકાત પ્રક્રિયા કરવી આવશ્યક છે.
● રાસાયણિક ઇન્જેક્શન વાલ્વ માટે લાયકાત પદ્ધતિ
● રાસાયણિક કાર્યક્ષમતા માટે પરીક્ષણ અને લાયકાતની પદ્ધતિઓ
● પદ્ધતિ વિકાસ
● સંબંધિત સામગ્રી પરીક્ષણ
● બહુ-શિસ્તની ક્રિયાપ્રતિક્રિયા જેમાં સામેલ વિવિધ શાખાઓ વચ્ચે સંચાર સફળતા માટે નિર્ણાયક છે.
સ્વીકૃતિઓ
લેખક આ કાર્યને પ્રકાશિત કરવાની પરવાનગી માટે Statoil AS A અને Fig.2 માં ઇમેજનો ઉપયોગ કરવાની મંજૂરી આપવા માટે બેકર હ્યુજીસ અને શ્લેમ્બરગરનો આભાર માનવા માંગે છે.
નામકરણ
(Ba/Sr)SO4=બેરિયમ/સ્ટ્રોન્ટિયમ સલ્ફેટ
CaCO3=કેલ્શિયમ કાર્બોનેટ
DHCI=ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન
DHSV=ડાઉનહોલ સલામતી વાલ્વ
દા.ત. = ઉદાહરણ તરીકે
GOR=ગેસઓઇલ રેશિયો
HSE = આરોગ્ય સુરક્ષા વાતાવરણ
HPHT = ઉચ્ચ દબાણ ઉચ્ચ તાપમાન
ID=આંતરિક વ્યાસ
એટલે = એટલે કે
km=કિલોમીટર
મીમી = મિલીમીટર
MEG=મોનો ઇથિલિન ગ્લાયકોલ
mMD=મીટર માપેલી ઊંડાઈ
OD = બહારનો વ્યાસ
SI=સ્કેલ અવરોધક
mTV D=મીટર કુલ ઊભી ઊંડાઈ
U-tube=U આકારની નળી
VPD = બાષ્પ દબાણ ડિપ્રેસન્ટ
આકૃતિ 1. એટીપીકલ ક્ષેત્રમાં સબસી અને ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન સિસ્ટમ્સની ઝાંખી.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન અપ સ્ટ્રીમ DHSV અને સંબંધિત અપેક્ષિત પડકારોનું સ્કેચ.DHS V=ડાઉનહોલ સેફ્ટી વાલ્વ, PWV=પ્રોસેસ વિંગ વાલ્વ અને PM V=પ્રોસેસ માસ્ટર વાલ્વ.
આકૃતિ 2. મેન્ડ્રેલ અને વાલ્વ સાથે એટીપિકલ ડાઉનહોલ કેમિકલ ઇન્જેક્શન સિસ્ટમનું સ્કેચ.સિસ્ટમ સપાટીના મેનીફોલ્ડ સુધી હૂક કરવામાં આવે છે, તેને ખવડાવવામાં આવે છે અને ટ્યુબિંગની વલયાકાર બાજુએ ટ્યુબિંગ હેંગર સાથે જોડાયેલ છે.રાસાયણિક ઇન્જેક્શન મેન્ડ્રેલ પરંપરાગત રીતે રાસાયણિક રક્ષણ આપવાના હેતુથી કૂવામાં ઊંડા મૂકવામાં આવે છે.
આકૃતિ 3. લાક્ષણિક કૂવા અવરોધ યોજનાકીય,જ્યાં વાદળી રંગ પ્રાથમિક કૂવા અવરોધ પરબિડીયું રજૂ કરે છે;આ કિસ્સામાં ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ.લાલ રંગ ગૌણ અવરોધ પરબિડીયું રજૂ કરે છે;કેસીંગડાબી બાજુએ રાસાયણિક ઇન્જેક્શન સૂચવવામાં આવે છે, લાલ (ગૌણ અવરોધ) ચિહ્નિત વિસ્તારમાં ઉત્પાદન ટ્યુબિંગ તરફ ઇન્જેક્શન પોઇન્ટ સાથે બ્લેકલાઇન.
આકૃતિ 4. 3/8” ઈન્જેક્શન લાઇનના ઉપરના ભાગમાં જોવા મળે છે.આ વિસ્તાર એટીપિકલ વેલ બેરિયર સ્કીમેટિકના સ્કેચમાં દર્શાવવામાં આવ્યો છે, જે નારંગી લંબગોળ સાથે ચિહ્નિત થયેલ છે.
આકૃતિ 5. 7” 3% ક્રોમ ટ્યુબિંગ પર ગંભીર કાટ હુમલો.આકૃતિ પીટેડ કેમિકલ ઇન્જેક્શન લાઇનમાંથી પ્રોડક્શન ટ્યુબિંગ પર સ્કેલ ઇન્હિબિટર છાંટ્યા પછી કાટનો હુમલો દર્શાવે છે.
આકૃતિ 6. રાસાયણિક ઈન્જેક્શન વાલ્વમાં મળી આવેલ ભંગાર.આ કિસ્સામાં કાટમાળ કેટલાક સફેદ કાટમાળ ઉપરાંત કદાચ ઇન્સ્ટોલેશન પ્રક્રિયામાંથી ધાતુના શેવિંગ હતા.સફેદ કાટમાળની તપાસમાં રાસાયણિક ઇન્જેક્શનની જેમ સમાન રસાયણશાસ્ત્ર સાથે પોલિમર હોવાનું સાબિત થયું
પોસ્ટ સમય: એપ્રિલ-27-2022